用于(yu)硅(gui)太(tai)陽能電(dian)池的(de)(de)激光橢偏儀 緊湊型創新設備，旨在(zai)測量(liang)沉(chen)積在(zai)紋(wen)理(li)硅(gui)（單硅(gui)和多硅(gui)）襯底(di)上的(de)(de)抗反射涂層的(de)(de)厚度(du)和光學常數。可(ke)以(yi)輕松實現優化(hua)的(de)(de)入射角（12-90°），以(yi)獲得(de)沉(chen)積在(zai)多晶結(jie)構晶圓(yuan)上的(de)(de)薄膜的(de)(de)大信號。金字塔結(jie)構可(ke)以(yi)定向以(yi)獲得(de)正確的(de)(de)測量(liang)值(zhi)，同時將樣品牢固地(di)保持(chi)在(zai)適(shi)當的(de)(de)位置。

• 確定減反射涂層的薄膜厚度和光學常數（折射率和消光系數）
• 用于穩定性和自動校準的集成光學元件
• 微點聚焦光學元件，用于良好信號收集。
• 特別改裝的樣品架，適用于 156×156 mm 的樣品池尺寸。
• 在線集成，實現快速過程控制。
• 符合智能軟件標準。
• 樣品對準：用于手動傾斜和高度調整的大信號檢測。

• 測量波長：632.8 nm（氦-Ne激光）
• 樣品臺：兼容 156 × 156 mm
• 測角儀：55° - 90° 手動控制