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FormFactor 的(de)自主(zhu)硅光子測(ce)(ce)量助手設定(ding)了晶圓和芯片級硅光子探測(ce)(ce)的(de)行業標準(zhun)(zhun)。這種高度靈活的(de)解(jie)決方案提供(gong)了多(duo)種測(ce)(ce)試技術(shu),從單光纖到(dao)陣列,從垂直耦合(he)到(dao)邊緣耦合(he)。憑借用于校(xiao)準(zhun)(zhun)的(de)全新革命性 OptoVue、智能機器(qi)視覺算(suan)法和適用于黑暗(an)、屏蔽和無(wu)霜環境的(de)SiPh TopHat,該系統可(ke)在(zai)多(duo)個溫度下(xia)實現免(mian)提自主(zhu)校(xiao)準(zhun)(zhun)和重新校(xiao)準(zhun)(zhun)。這樣(yang)可(ke)以更(geng)快地進行更(geng)準(zhun)(zhun)確的(de)測(ce)(ce)量并降低測(ce)(ce)試成(cheng)本(ben)。
使用單根光(guang)纖(xian)和(he)光(guang)纖(xian)陣列作(zuo)為探針將光(guang)耦(ou)(ou)(ou)合(he)進(jin)出晶圓(yuan)以(yi)進(jin)行(xing)表面(mian)和(he)邊緣耦(ou)(ou)(ou)合(he),這(zhe)帶來了許多(duo)挑戰(zhan),FormFactor 通過其(qi)接觸(chu)智(zhi)能技(ji)術進(jin)行(xing)管理。與電(dian)氣測試不同,光(guang)學測試使用的光(guang)纖(xian)和(he)光(guang)纖(xian)陣列不接觸(chu)其(qi)相應的“焊(han)盤”,即晶圓(yuan)表面(mian)和(he)邊緣上的光(guang)柵耦(ou)(ou)(ou)合(he)器或小(xiao)平(ping)面(mian)。相反,光(guang)纖(xian)需要相對于耦(ou)(ou)(ou)合(he)器和(he)小(xiao)平(ping)面(mian)進(jin)行(xing)鉸(jiao)接,以(yi)找(zhao)到(dao)最(zui)大光(guang)功率傳(chuan)輸的位置。
通(tong)過 FormFactor 工程師開發(fa)的(de)(de)(de)自動(dong)化(hua)技術,設置(zhi)光纖或(huo)陣列(lie)尖端(duan)相對(dui)于光柵和(he)刻(ke)面的(de)(de)(de)初始位置(zhi),然后優(you)化(hua)它們(men)的(de)(de)(de)位置(zhi)。使用先(xian)進(jin)的(de)(de)(de)圖像(xiang)處理和(he)專門開發(fa)的(de)(de)(de)算法,Z 高度設置(zhi)、光纖到(dao)小平面間(jian)隙以及探針(zhen)臺定位解決方案(an)的(de)(de)(de)一套(tao)自動(dong)校準可用。
FormFactor 還實施了 Z 位移傳感技(ji)術,該技(ji)術可在裸(luo)片到(dao)裸(luo)片步進時實現纖維(wei)和(he)陣列的準(zhun)確亞微米級放置精度。這些自(zi)動化(hua)光(guang)(guang)學功能還可以與可編程直(zhi)流和(he)射頻定位技(ji)術相結合,以創(chuang)建(jian)自(zi)動化(hua)的光(guang)(guang)-光(guang)(guang)、光(guang)(guang)-電和(he)光(guang)(guang)-電-光(guang)(guang)測試平臺。
對(dui)于(yu)光學應用,Contact Intelligence 將(jiang)過去需(xu)要數(shu)天、數(shu)周或數(shu)月的(de)時間(jian)縮(suo)短到幾(ji)分鐘,同時在(zai)動(dong)態(tai)工程環(huan)境和穩定的(de)可重復生產(chan)環(huan)境中提供靈活性。
自主硅光子測量助(zhu)手可用于以(yi)下 200 毫(hao)米和 300 毫(hao)米探針臺(tai):CM300xi-SiPh 和 SUMMIT200。
視光
水平芯片級邊緣耦合
晶圓級邊緣耦合
垂直聯軸器
散熱能力
自動校準
經驗證的性能
FormFactor SiPh 工具
FormFactor 光(guang)子控制器(qi)接口 (PCI)
可重構光纖臂
CalVue
PowerVue
ProbeVue
單光纖、光纖陣列、DC 和(he) RF 探頭的向上看探頭檢查功能
從角找到初(chu)始陣列耦合偏(pian)移位置(zhi)
DieVue
垂直和邊緣耦合
硅光子學
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