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FRT MicroProf AP 是一(yi)種(zhong)全自動晶圓計量(liang)工具(ju),適(shi)用于不同 3D 封(feng)裝工藝步驟(zou)的(de)(de)廣泛應用,例如用于測量(liang)光刻膠 (PR) 涂層和結構、通過(guo)硅通孔(kong) (TSV) 或蝕刻后的(de)(de)溝槽(cao)、μ 凸塊和銅柱,以(yi)及(ji)在(zai)減薄、鍵合和堆疊過(guo)程中(zhong)進(jin)行測量(liang)。憑(ping)借其模塊化多傳感器概念,靈(ling)活的(de)(de) MicroProf AP 測量(liang)工具(ju)非常適(shi)合在(zai)封(feng)裝中(zhong)執行各(ge)種(zhong)測量(liang)任務。
FRT MicroProf AP 還(huan)為功率(lv)半導(dao)體(ti)(例如(ru) MOSFET 或(huo) IGBT)的(de)背面(mian)(mian)處(chu)理(背面(mian)(mian)研磨(mo)、金屬化)以及不同(tong)基板的(de)控制提(ti)供測量解決方(fang)案,例如(ru)體(ti)硅、SOI、腔體(ti) SOI、GaAs、InP、SiC、GaN、ZnO 等化合(he)物,也(ye)用(yong)于(yu)透(tou)明材(cai)料(liao)。此外,它還(huan)可以用(yong)于(yu)混合(he)鍵合(he)和微機電系統 (MEMS),包括消費電子、汽車、電信和工業市場。
按需改造
> PI和(he)PR膜厚,PI和(he)PR開(kai)孔
> CD 和覆蓋
> TSV 計量、填充監測(ce)、溝槽
> 種層金屬檢測(ce)
> 鍍銅厚度
> CMP 后的平整度和均勻度
> UBM 高(gao)度(du)和(he)粗糙度(du)
> RDL 厚度(du)、寬(kuan)度(du)和粗糙度(du)
> 補充和增強(qiang)自(zi)動碰撞檢測(ce)系統的性能
> 凹(ao)凸(tu)和(he)(he)釘子的高度、直徑和(he)(he)共面性(xing)
> 彎曲和壓力
> 載體、粘合劑(ji)、鍵合晶圓厚(hou)度(du)和 TTV
> 最終封裝的形貌(mao)和平面度(du)
>熱負(fu)荷下的堆垛變形
> 模具檢驗
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