Chromatis色散測量系(xi)(xi)統(tong)可(ke)表征(zheng)用于(yu)飛秒脈沖(chong)激光器的(de)反射和透射光學組件(jian)的(de)群延遲色散(GDD)特性。超快脈沖(chong)在通過光學系(xi)(xi)統(tong)傳(chuan)播時會變寬；了解每個光學元(yuan)件(jian)引(yin)起(qi)的(de)GDD并(bing)適當補償(chang)失真，可(ke)以恢復短(duan)脈沖(chong)寬度。為了獲得高度準確和可(ke)靠的(de)結果，Chromatis使用時域白光干涉儀(yi)(WLI)來測量GDD。該色散測量系(xi)(xi)統(tong)包(bao)含軟件(jian)，可(ke)指導用戶進行光束對準(條紋優(you)化)、自動找到零延時位(wei)置(條紋對比max.)并(bing)快速測量色散。

Chromatis色散測(ce)量系統具有光(guang)(guang)(guang)纖(xian)耦(ou)合(he)的穩定鹵素光(guang)(guang)(guang)源，其有效波(bo)(bo)(bo)長(chang)范圍為500至2100 nm。該寬帶(dai)光(guang)(guang)(guang)源可(ke)表征為用(yong)(yong)于鈦藍寶石、摻鐿(yi)光(guang)(guang)(guang)纖(xian)和摻鉺(er)光(guang)(guang)(guang)纖(xian)激光(guang)(guang)(guang)器的超(chao)快光(guang)(guang)(guang)學元(yuan)件(jian)。由于干涉圖是(shi)在時域(yu)中記錄，因此可(ke)以(yi)使用(yong)(yong)單個(ge)光(guang)(guang)(guang)電二(er)極管(guan)探測(ce)器(而不是(shi)光(guang)(guang)(guang)譜儀(yi))進行測(ce)量，并且內置(zhi)的HeNe參考激光(guang)(guang)(guang)器可(ke)對(dui)波(bo)(bo)(bo)長(chang)軸進行校準。該系統包括一個(ge)波(bo)(bo)(bo)長(chang)為500-1100 nm的硅光(guang)(guang)(guang)電二(er)極管(guan)。但是(shi)，可(ke)以(yi)很容易地連接InGaAs探測(ce)器進行1000-1650 nm波(bo)(bo)(bo)長(chang)范圍內的測(ce)量。

通常，低色(se)(se)散光(guang)(guang)學元件僅需要(yao)幾百飛秒即(ji)可(ke)捕獲整個(ge)干涉(she)圖，因此(ci)(ci)使用(yong)濾光(guang)(guang)片限制入射光(guang)(guang)的(de)(de)波長范圍(wei)(wei)常有(you)助(zhu)于(yu)減(jian)少所需的(de)(de)掃描范圍(wei)(wei)和(he)總體噪(zao)聲。Chromatis色(se)(se)散測量系統具有(you)六個(ge)用(yong)于(yu)濾光(guang)(guang)片的(de)(de)插(cha)槽，并(bing)且包含覆蓋500-700 nm、600-1000 nm和(he)950-1100 nm波長范圍(wei)(wei)的(de)(de)帶通濾光(guang)(guang)片，用(yong)于(yu)與硅光(guang)(guang)電二極管配合使用(yong)。由(you)于(yu)濾光(guang)(guang)會降低掃描的(de)(de)整體強度，因此(ci)(ci)會降低干擾對(dui)比度，而光(guang)(guang)電二極管具有(you)可(ke)變(bian)的(de)(de)增益設置(zhi)以補償此(ci)(ci)衰(shuai)減(jian)。

• 用于測量色散的白光干涉儀
• 穩定鹵素光源的寬帶發射
• 可安裝Ø1/2英寸和Ø1英寸的光學元件
• 標準測量模式，包含夾具和參考光學元件

0°反射

0° - 70°透射

5° - 70°角(jiao)度反射(she)

• 可選反射鏡對夾具
• 同時測量S偏振和P偏振
• 包含用于波長自校準的HeNe參考激光器
• 包含用于空間對準的紅光和綠光二極管激光器
• 可選兩個用戶可更換的探測器
• 機架式2U柜(3.5英寸面板高度)中包含電子設備
• 由包含的預裝軟件Windows筆記本操作

• InGaAs 檢測器模塊，用于測量至 1650 nm
• 2”光學裝置
• 鏡對夾具
• 用于測量高色散光學器件（例如 AOM 晶體）的硬件
• 范圍擴展到7 或 2.2 微米

確認膜層設計規格

光學元件檢查

質量控制測量