Restek的(de)(de)(de)分(fen)(fen)子篩(shai)5A PLOT柱(zhu)設計用于有(you)效分(fen)(fen)離氬氣(qi)/氧(yang)氣(qi)和其他氣(qi)體，包括一氧(yang)化(hua)碳。特殊的(de)(de)(de)涂層(ceng)和失活(huo)(huo)程序可(ke)確(que)保色(se)譜(pu)效率和多孔層(ceng)涂層(ceng)的(de)(de)(de)完整性。分(fen)(fen)子篩(shai)具有(you)非常(chang)高的(de)(de)(de)保留率，允(yun)許在高于環境溫度的(de)(de)(de)溫度下(xia)分(fen)(fen)離氣(qi)體。我們(men)的(de)(de)(de)失活(huo)(huo)技術還允(yun)許一氧(yang)化(hua)碳以(yi)尖銳的(de)(de)(de)峰值洗(xi)脫(tuo)。此(ci)外，我們(men)獨特的(de)(de)(de)固定化(hua)工藝確(que)保均勻的(de)(de)(de)顆(ke)粒保持附(fu)著在管道上——即(ji)使在連續的(de)(de)(de)閥門循環之后也是(shi)如(ru)此(ci)。

由于分(fen)(fen)子篩(shai)材料具(ju)有很強的親水(shui)性，它(ta)們會(hui)吸附樣品或載氣中的水(shui)。水(shui)污染會(hui)對峰對稱性產生(sheng)不利影響，并會(hui)降低所有化合物的分(fen)(fen)辨率。如(ru)果發生(sheng)水(shui)污染，通(tong)過(guo)在300°C下用干載氣流調節3小時，重新激(ji)活Restek Msieve 5A PLOT柱(zhu)。

我(wo)們不建(jian)議重新卷取PLOT柱，因為這可能會導(dao)致顆(ke)粒(li)從管道側面脫落(luo)。

• 通過氬、氧和一氧化碳的尖銳、對稱的峰值提高精度。
• 在高于環境溫度的條件下，容易分離出氣體。
• Restek PLOT技術減少顆粒釋放，提高流動再現性，減少維護停機時間。
• 溫度范圍：-100至300°C。
• GC柱相位交叉參考也可用。
• 使用我們的Pro EZGC色譜建模器為PLOT柱建模。

產地：美國

薄膜厚度(du)：50 µm

內(nei)徑（ID）：0.53 mm

長度：30 m

溫(wen)度限制(zhi)：-100至(zhi)300°C

類(lei)似(si)相：安捷(jie)倫CP分(fen)子篩5A、HP-PLOT分(fen)子篩

Quadrex PLT-5A

Supelco/Millipore Sigma分子篩5A

運輸長度：9英寸

運輸寬度：9英寸

運輸高度：2.5英寸

運輸重量：0.65 磅