帶燈加熱的直接液體噴(pen)射汽化器使 MC-050成(cheng)為一(yi)種(zhong)獨(du)特的機器,具有像集群工具一(yi)樣的多工藝(yi)能力,但在一(yi)個單一(yi)的工藝(yi)室(shi)內。
Annealsys MC-050系統是為滿足研發單位(wei)的(de)(de)要求而開發的(de)(de)2英寸DLI-CVD/DLI-ALD反應器。
紅外燈(deng)爐與(yu)直(zhi)接(jie)液體注入蒸發器相結合,在同一(yi)工藝室內提供獨特(te)的多(duo)工藝能力:CVD、ALD、MOCVD、RTP 和 RTCVD。
直接液體注(zhu)入(ru) (DLI) 蒸(zheng)發器可控制前(qian)體流量,并允許(xu)使(shi)用低蒸(zheng)氣壓和稀釋(shi)的(de)化(hua)學前(qian)體。與旁通(tong)閥相關的(de)前(qian)體蒸(zheng)汽流的(de)快速切換(huan)為納(na)米層壓板(ban)的(de)沉積提(ti)供(gong)了界(jie)面控制。
MC-050是使用廣(guang)泛(fan)的固(gu)體和(he)液體有機(ji)金屬前體開發(fa)新(xin)材料和(he)納米(mi)層壓材料的機(ji)器。
MC-050 可以使用廣泛的有(you)機金屬前體進行化學氣(qi)相沉積和原(yuan)子層(ceng)沉積工藝,同(tong)時提供原(yuan)位退火功(gong)能。
MC-050可配備6個直(zhi)接液體(ti)注入蒸發器和兩(liang)個用(yong)于高(gao)蒸氣壓前體(ti)的起泡器。
MC-050提供了廣泛的新材料開發能力,包括單(dan)金屬氧(yang)化物(wu)和多金屬氧(yang)化物(wu)以及過(guo)渡金屬●二硫化物(wu) (TMD) 和其(qi)他二維材料。
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